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【曬曬咱的國之重器41】離子注入機:二十八納米工藝實現(xiàn)全覆蓋

發(fā)布時間:2024-01-26 10:03:00來源: 光明網(wǎng)-《光明日報》

  曬曬咱的國之重器41

  光明日報記者 崔興毅

  穿過制造中心入口的風(fēng)淋系統(tǒng),整條產(chǎn)線映入眼簾,一臺臺設(shè)備完成裝配調(diào)試后,輸送至各集成電路先進(jìn)產(chǎn)線,參與“中國芯”制造。

  這是什么高精尖設(shè)備?

  “它們可是‘中國芯’制造的關(guān)鍵一環(huán)!”中國電科下屬電科裝備北京爍科中科信公司黨支部書記、總經(jīng)理李進(jìn)指著生產(chǎn)線說,這是我們自主研制的國產(chǎn)離子注入機,是集成電路領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備。

  “在芯片制造過程中,需要摻入不同種類的元素,按預(yù)定方式改變材料的電性能。這些元素以帶電離子的形式被加速至預(yù)定能量并注入至特定半導(dǎo)體材料中,離子注入機就是執(zhí)行這一摻雜工藝的芯片制造設(shè)備。”李進(jìn)解釋。

  “它的工作原理是通過電磁場控制高速運動的離子,按照工藝要求的角度及深度以精準(zhǔn)完成注入。”李進(jìn)說,這個難度,不亞于以飛機飛行的速度完成一次側(cè)方位停車。技術(shù)總師彭立波連忙補充:“這‘家伙’專業(yè)性強、涉及學(xué)科多、精密化程度高,極其復(fù)雜?!?/p>

  有多復(fù)雜?

  2.5萬個零部件要7×24小時密切配合,讓束流時刻保持著特定的高能量,精準(zhǔn)地注入硅片的指定區(qū)域,不能有一絲卡頓……而這些,還只是離子注入機工程化的“基礎(chǔ)套餐”。

  集成電路產(chǎn)線上要比實驗室的情況復(fù)雜得多,要實現(xiàn)極端嚴(yán)苛的要求,科研團(tuán)隊只能一個關(guān)卡接一個關(guān)卡地闖,其中有一項是實現(xiàn)高溫注入——這是集成電路領(lǐng)域的先進(jìn)工藝之一,需要連續(xù)突破關(guān)鍵部件研制及注入工藝達(dá)標(biāo)兩項難關(guān),此前在國內(nèi)無成功研制先例,是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的典型難題。

  “時間緊,任務(wù)重,我們常常為了實現(xiàn)一個指標(biāo),反復(fù)驗證計算?!崩钸M(jìn)說,前前后后對整個溫控流程進(jìn)行數(shù)十次仿真驗證,最終實現(xiàn)了在目標(biāo)溫度下,設(shè)備仍能對晶圓均勻吸附,且能夠保障高效穩(wěn)定的傳輸目標(biāo),這項技術(shù)已在集成電路產(chǎn)線上得到成功驗證。

  設(shè)備有了,如何讓它真正運轉(zhuǎn)起來?

  這就要說到當(dāng)前芯片應(yīng)用領(lǐng)域中覆蓋面最廣的制程——28納米,這也是離子注入機必須打通的工藝節(jié)點。

  “28納米是注入工序中需求最多及生命周期最長的節(jié)點,對注入角度、注入劑量精度有嚴(yán)格要求。注入期間,設(shè)備軟硬件要緊密配合,需根據(jù)不同注入?yún)^(qū)域?qū)崟r對注入劑量進(jìn)行調(diào)整,稍有偏頗,良率將達(dá)不到產(chǎn)線要求。”李進(jìn)說。

  可喜的是,科研團(tuán)隊已連續(xù)突破光路、控制、軟件等關(guān)鍵模塊的核心技術(shù),形成中束流、大束流、高能及第三代半導(dǎo)體等全系列離子注入機產(chǎn)品格局,并實現(xiàn)28納米工藝全覆蓋,保障了“中國芯”的生產(chǎn)制造!

  《光明日報》(2024年01月26日 01版)

(責(zé)編:李雨潼)

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